Маска для проблемной кожи на основе оксида цинка и экстракта центеллы азиатской предотвращает появление несовершенств, оказывает матирующее действие, абсорбируя излишки себума. Результат: поры сужены, кожа более чистая и матовая, следы постакне сокращаются. Активные компоненты: галактамисис, салициловая кислота (BHA), центелла азиатская, аллантоин, цинк, экстракт зеленого чая, пробиотики. Колличество: в упаковке 1 тканевая маска.